使用GPT Industries的EVOLUTION®垫片克服电气桥接
- 细节
GPT Industries介绍了客户如何使用该公司的EVOLUTION®隔离垫圈成功实现电气隔离
GPT EVOLUTION®垫片。(图片来源:GPT Industries)
电气桥接是工业中越来越普遍的一个问题。多年来，该客户一直在与法兰隔离套件的隔离失效作斗争，不是因为垫圈失效或安装错误，而是因为介质穿过了管线。
在这些管线中，固体导电沉积在法兰交点堆积，使得CP电流沿着这条路径，跳过隔离组件，继续到下一个法兰。这在本质上减轻了使用工具包的影响，因为CP正在丢失。不管他们安装了什么隔离垫片，这个问题仍然存在。
意义
当电流通过隔离法兰丢失时，可能需要安装额外的、补充的CP系统，以适当保护所有资产，而这些费用可高达5万美元。当这些补充系统没有到位时，CP就不能再保护它所要保护的东西，这可能会导致管线和法兰的腐蚀率非常高。高腐蚀率导致材料损坏，并可能导致泄漏。在某些情况下，沉积形成了发生电偶腐蚀的路径，导致阳极金属的腐蚀速率极高。
解决方案
客户对不同的解决方案进行了多次试验，但都没有成功。传统的基于greo的垫圈无法克服桥接，因此安装了金属芯隔离垫圈。接下来，安装两个垫片，确保垫片ID与管道孔匹配，这样法兰之间就不可能出现间隙。这大大减少了能够通过的电流，但并没有完全阻止它。仍然有电流泄漏，使CP系统无法保护它的设计目的。
在EVOLUTION®在其他遇到类似问题的应用程序中取得成功后，EVOLUTION®被推荐。这导致了成功的隔离，没有电流通过不同的线路。EVOLUTION®是第一个以电桥的形式阻止电流通过沉积的解决方案。EVOLUTION®使用ID密封，这是与所有其他垫圈的区别。这个ID密封不允许沉积物粘在接口上，在那里隔离将丢失。这也增加了有效的隔离距离，不允许任何金属芯暴露在介质中。最后，这种ID密封与管道孔相匹配，防止任何介质在桥架法兰之间堆积。可以看到，即使是将内径稍微伸入井眼，也会对电桥接产生积极的影响。有效隔离距离也增加了。该解决方案一直在使用中，并取得了以前在这些管线中从未见过的效果，确保CP系统能够保护其设计目的，减少管道和法兰的腐蚀。
如需更多资料，请浏览:http://www.gptindustries.com
